Síntesis de recubrimientos nanoestructurados de (Ti-Zr-Si)N depositados sobre aleación de Ti6Al4V
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Cardenas-Flechas, L. J., Mejía-Villagran, C. P., Rincon-Joya, M., & Olaya-Florez, J. J. . (2021). Síntesis de recubrimientos nanoestructurados de (Ti-Zr-Si)N depositados sobre aleación de Ti6Al4V. Revista De La Academia Colombiana De Ciencias Exactas, Físicas Y Naturales, 45(175), 570–581. https://doi.org/10.18257/raccefyn.1198

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Resumen

Los recubrimientos de TiZrSiN tienen aplicaciones importantes como barreras contra la corrosión y estabilizadores térmicos. La adición de Si en las películas de TiZrN ayuda a aumentar la dureza y la estabilidad térmica del recubrimiento base. En este trabajo, películas delgadas de (Ti-Zr-Si)N fueron depositadas sobre la aleación de Ti6Al4V mediante la técnica de co-sputtering utilizando blancos de Ti5Si2 y Zr. La síntesis de los recubrimientos se realizó variando la potencia de descarga en la fuente RF encargada del blanco de Ti5Si2 a 130W, 150W y 170W, así como una variación en la temperatura de depósito a temperatura ambiente, 130° y 260°C. Los recubrimientos fueron caracterizados por medio de difracción de rayos X (XRD), donde se evidencia la formación de la fase que pertenece a la solución sólida (Zr,Ti)N, microscopía electrónica de barrido (SEM), espectroscopia UV-Vis y ensayos de dureza y pin-on-disc. El espesor fue medido a través de interferometría con valores entre 662 y 481nm para los recubrimientos depositados. De acuerdo con el mecanismo de falla en el ensayo de rayado, los mejores resultados obtenidos se dieron para una potencia de 170W y 260°C con una falla cohesiva Lc1=2.1N y una falla adhesiva Lc2=4.7N.

https://doi.org/10.18257/raccefyn.1198

Palabras clave

(Ti-Zr-Si)N | Ti6Al4V | Recubrimientos | Co-sputtering | Nanoestructuras
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