Análisis estructural de películas delgadas de NbN crecidas a través de pulverización catódica magnetrón RF
PDF (English)

Cómo citar

Alfonso, J. E., Olaya, J. J., Campos*, A., & Mendoza, M. (2024). Análisis estructural de películas delgadas de NbN crecidas a través de pulverización catódica magnetrón RF. Revista De La Academia Colombiana De Ciencias Exactas, Físicas Y Naturales, 37(Suplemento), 99–103. Recuperado a partir de https://raccefyn.co/index.php/raccefyn/article/view/2627

Descargas

Los datos de descargas todavía no están disponibles.

Dimensions

Resumen

En este trabajo se han crecido películas delgadas de NbN a través de la técnica de pulverización catódica magnetrón rf a partir de un blanco de NbN (99.99%). En particular, se ha estudiado la influencia que tiene la incorporación de flujo adicional de N2 a la cámara de preparación en la cristalización y la microestructura de las películas depositadas. Las películas se han caracterizado por difracción de rayos X (DRX) en la configuración de 0-20 y en ángulo de incidencia rasante, microscopía electrónica de barrido (SEM) y microscopía electrónica de transmisión (TEM). Los resultados de DRX muestran que las películas crecidas en diferentes flujos de N2 tienen alto coeficiente de textura a lo largo de la dirección [200]. Los resultados de SEM indican que las películas tienen un crecimiento columnar con alta homogeneidad y espesor medio de 0.7 μm. Los resultados de TEM revelan que las películas han crecido a partir de nanopartículas cristalinas de NbN con alta textura a lo largo del plano (200).

Palabras clave

Películas delgadas | ángulo rasante | estructura cristalina | nanoparticulas
PDF (English)

Citas

Ishiguro T, Matsushima K, Hamasaki K "Sectional structures and electrical properties of ultrathin NbN/MgO bilayers on Si(I00)", J. Appl. Phys 73, 1151-1153, 1993.

Wang Z., Kawakami A., Uzawa Y., Komiyama B. J.," Superconducting properties and crystal structures of single-crystal niobium nitride thin films deposited at ambient substrate temperature", J. Appl. Phys. 79, 7837- 7842,1996.

Gotoh Y., Nagao M., Ura T., Tsuji H., Ishikawa J., "Ion beam assisted deposition of niobium nitride thin films for vacuum microelectronics devices", Nucl Instr. Meth. Phys. Res. B. 148, 925-931, 1999.

Wong M.S., Sproul WD, Chu X, Barnett S.A., "Reactive magnetron sputter deposition of niobium nitride films", J. Vac. Sci. Technol. A 11(4), 1528-1536 ,1993.

Havey K.S., Zabinski J.S., Walck S. D., "The chemistry, structure, and resulting wear properties of magnetron-sputtered NbN", Thin Solid Films, 303, 238- 245, 1997.

Alén P., Ritala M., Arstila K., Keinonen J., Leskela M., "The growth and diffusion barrier properties of atomic layer deposited NbN thin film", Thin Solid Films 49, 235- 239, 2005.

Yu J.H., Park D.S., Kim J.H., Jeong .T.S., Youn C. J., Hong K.J., "Post-growth annealing and wide bandgap modulation of BeZnO layers grown by RF co-sputtering of ZnO and Be targets", J. Mater. Sci. 45,130-135, 2010.

J.E. Alfonso, J. Torres,J.F Marco, "Influence of the substrate bias voltage on the crystallographic structure and surface composition of Ti6Al4V thin films deposited by rf magnetron sputtering", Brazilian J. Phys. Vol. 36 no. 3B, 993-996, 2006.

J. E. Alfonso, J. Buitrago,J. Torres, J. F. Marco, B. Santos, "Influence of fabrication parameters on crystallization, microstructure, and surface composition of NbN thin films deposited by rf magnetron sputtering", J. Mater. Sci. 45, 5528-5533, 2010.

Rutherford K. L., Hatto P.W., Davies C, Hutchings I.M., "Abrasive wear resistance of TiN/NbN multi-layers: measurement and neural network modeling", Surf. Coat. Technol., 86, 472-479, 1996.

Zhitomirsky V.N., Grimberg l., Rapport L., Travitzky N.A., Boxman R.L., Goldsmith S., Raihel A., Lapsker l., Weiss B. Z., "Structure and mechanical properties of vacuum arc-deposited NbN coatings", Thin Solid Films, 326, 134- 142, 1998.

Chu X., Wong M.S., Sproul W. D., Rhode S.L, Barnett S. A., "Deposition and properties of polycrystalline TiN/NbN superlattice coatings J. Vac. Sci. Technol.A10 1604-1609, 1992.

Bendavid A., Martin P. J., Kinder T.J., Preston E.W., "The deposition of NbN and NbC thin films by filtered vacuum cathodic arc deposition", Surf. Coat. Technol., 163, 347-352, 2003.

Huang J-H, Lau K-W, Yu G-P., "Effect of nitrogen flow rate on structure and properties of nanocrystalline TiN thin films produced by unbalanced magnetron sputtering", Surf. Coat. Technol. 191,17- 24, 2005.

B. A. Movchan and A. V. Demchishin, Fiz., "Study of the Structure and Properties of Dioxide thin, Met. Metalloved, 28, 83-90 ,1969.

Creative Commons License

Esta obra está bajo una licencia internacional Creative Commons Atribución-NoComercial-SinDerivadas 4.0.