Estudios electroquímicos de la resistencia a la corrosión de películas delgadas de titanato de bismuto depositado mediante sputtering RFuto Depositado Mediante Sputtering RF

Resumen

Películas delgadas de titanato de bismuto fueron crecidas sobre sustratos de acero inoxidable (316L) y aleación de titanio (Ti6Al4V), utilizando la técnica de magnetron sputtering. La morfología de estas películas fue observada con microscopio electrónico de barrido (MEB). Los estudios electroquímicos utilizados para evaluar la resistencia a la corrosión del conjunto sustrato-recubrimiento fueron la prueba de polarización potenciodinámica (Tafel) y la espectroscopia de impedancias electroquímicas (EIS), ambas pruebas fueron realizadas en una solución de NaCl (3%) como electrolito. El MEB mostró que la morfología de los recubrimientos crecidos sobre sustratos de aleación de titanio Ti6Al4V fue homogénea en general con una superficie suave pero con presencia de material sin fundir en algunas regiones, mientras que la morfología de las películas crecidas sobre acero inoxidable 316L fue principalmente granular, con la aparición de algunos cráteres. Las curvas de polarización potenciodinámica muestran que la resistencia a la corrosión de las muestras recubiertas fue mejor que la de las muestras sin recubrir ya que la corriente de corrosión obtenida de las muestras recubiertas fue dos órdenes de magnitud menor que la exhibida por las no recubiertas, adicionalmente el potencial de corrosión fue mayor en las recubiertas que en las no recubiertas. El ensayo de EIS mostró la presencia de una capa pasiva de óxido de titanio en la superficie de los sustratos de aleación de titanio.